受賞理由は、新規メカニズム（レニン阻害作用）を有する降圧薬Tekturna ® / Rasilez ®（Aliskiren, アリスキレン）の研究開発です。このアメリカ化学会賞は、1996年に創設されて以来、化学に基づき製品開発に成功し、イノベーションをもたらした科学者または研究グループを表彰するものです。授賞式は、去る8月16日Washington D.C.で開催されたアメリカ化学会で行われました。共同受賞者（Novartis Institutes for Biomedical Institute）：Nissim Claude Cohen, Richard Göschke, Peter Herold, Robert Mah, Jürgen Maibaum, Joseph Rahuel, Vittorio Rasetti, Pascal Rigollier, Heinrich Rueeger, Walter Schilling, Stefan Stutz, and Yasuchika Yamaguchi